(untitled) (Universal xalqaro ilmiy jurnal, 2026)
Ushbu tadqiqotda III guruh nitrid yarimo’tkazgichlarining, ya’ni galliy nitridi (GaN), indiy nitridi (InN) va alyuminiy galliy nitridi (AlGaN) ning strukturaviy, elektron va optik xususiyatlariga e’tibor qaratib, ularning keng qamrovli qiyosiy tahlili taqdim etiladi. Keng va sozlanishi mumkin bo’lgan tasma oralig’i, yuqori issiqlik va kimyoviy barqarorlik hamda aniq spontan va pyezoelektrik polyarizatsiya effektlari tufayli III-nitrid materiallari zamonaviy yuqori quvvatli, yuqori chastotali elektron va optoelektron qurilmalarda muhim rol o’ynaydi. Tahlil GaN, InN va AlGaN ning kristall tuzilmalari, panjara parametrlari, tasma oralig’i energiyalari, tashuvchilarning harakatchanligi va optik yutilish xususiyatlarini tizimli taqqoslashni o’z ichiga oladi. AlGaN uchlik qotishmalariga alohida e’tibor qaratilgan bo’lib, ularda alyuminiy tarkibining tasma oralig’i muhandisligiga, kuchlanish effektlariga va polyarizatsiya natijasida yuzaga kelgan zaryadga ta’siri o’rganiladi. Ushbu materiallarning heterostrukturalar va kvant quduqlari tizimlarini shakllantirishdagi afzalliklari yorug’lik chiqaradigan diodlar, lazer diodlari, ultrabinafsha fotodetektorlar va yuqori elektronli harakatchanlik tranzistorlari (HEMT) kabi qurilmalarni qo’llash kontekstida muhokama qilinadi. Natijalar har bir materialning o’ziga xos xususiyatlari va texnologik salohiyatini ta’kidlaydi, ilg’or III-nitrid asosidagi yarimo’tkazgichli qurilmalarni loyihalash va optimallashtirish uchun mustahkam ilmiy asos yaratadi.